Плазменный инжектор

Свойства

- Магнитное поле индуцируется только в процессе разряда
- Ручное управление
- Режим автостарта с частотой 1-2 Гц
- Дистанционное управление от компьютера

Спецификация

- Диапазон рабочих давлений 8•10^-4- 5• 10^-2 mbar
- Длительность импульса >25 msec
- Источник питания 24В 12 Вт от адаптера
- Прогрев до 150°C

Начало разряда в источниках с ВЧ питанием затруднено при рабочем давлении этих источников. Поэтому необходимо увеличивать давление в рабочей камере до величин 0,1 мбар.
Инжектор плазмы предназначен для создания импульсного потока плазмы для поджига магнетронных или иных источников (etcher) с питанием от ВЧ генератора при рабочем давлении этих источников.
Отличительной особенностью инжектора является создание магнитного поля только на время импульса плазмы. Принцип работы – обращенный магнетронный DC разряд с конфигурацией магнитного поля, необходимой для выхода плазмы в камеру.
Плазма с длительностью импульса около 25 мс и с плотностью около 10⁹ см-3 в районе выходного фланца попадает в вакуумную камеру и создает условия для зажигания разряда в источнике с ВЧ питанием.

Прибор состоит из 2-х частей: разрядной трубки (UHV compatible) и блока электроники, который можно снимать при прогреве. Максимальная температура прогрева не выше 150°C
Возможны варианты присоединительных фланцев 16CF 40CF 16KF 25KF 40KF
На блоке электроники расположены светодиоды индикации подаваемого напряжения питания (Power) и готовности (Ready), а также кнопка (Pulse) для старта разряда.
Возможно дистанционное управление разрядом при подключении к установленному на блоке электроники разъему (Control). (Control) имеет изолированный выход для индикации сигнала (Ready), а также изолированный вход (Pulse) для инициации разряда. При соответствующей коммутации, возможен режим генерации импульсов плазмы с частотой около 1-2 Гц. Питание осуществляется напряжением 24В с ограничением тока на уровне 0,55А от сетевого адаптера.